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101.
采用纸毛细管喷雾(PCS)原位电离便携式质谱,在正离子模式下采集国内列管的40种卡西酮类毒品的质谱信息,分析一级质谱图[M+H]+峰,MS2、MS2_DDA模式下的特征碎片峰及其相对丰度比,建立用于40种卡西酮类毒品快速筛查的质谱数据库。研究发现,所有卡西酮类毒品均存在α位的C—N键裂解;根据最高离子峰是否为[M-H2O+H]+碎片峰可推测其是否存在仲、叔胺结构;N上取代基为吡咯烷基的卡西酮类毒品存在m/z 98+CnH2n系列特征峰;苯环上取代基为亚甲二氧基的卡西酮类毒品存在[M+H]+峰失去48 u或非[M+H]+峰失去30 u的特征离子峰。设计推断未知卡西酮类化合物的分析策略,并成功应用于10种待测物的结构推断。本方法可为卡西酮类毒品的结构鉴定和现场办案提供数据支持,有望成为打击卡西酮类毒品犯罪新的研判思路。 相似文献
102.
电喷雾质谱(ESI-MS)因具有灵敏度高、响应速度快、分辨率高、原位在线监测等特点,广泛应用于反应监测领域。本文主要从不同离子化技术角度,综述了电喷雾质谱在反应监测和机理研究方面的进展。重点介绍了在线电喷雾质谱技术,其中包括解吸附电喷雾离子化质谱(DESI-MS)、萃取电喷雾离子化质谱(EESI-MS)、纳升电喷雾离子化质谱(nESI-MS)、超声喷雾离子化质谱(SSI-MS)以及其他在线电喷雾离子化质谱在反应监测中的应用。最后,对电喷雾质谱在反应监测的发展趋势进行总结和展望。 相似文献
103.
We present a novel approximation of a global illumination technique called contour‐based polygonal ambient occlusion, an approach that darkens by only using a depth texture as screen‐space ambient occlusion without additional information such as a normal buffer. We introduce a discrete level structure to calculate the amount of occlusion by using the contour level, an integer value derived from the depth difference of neighboring texels. We use the uniform sampling to define the positions of the neighboring texels in the depth texture. Our method does not depend on geometric complexity because our method works in screen space and works well for both static and dynamic scenes without any precomputation. Copyright © 2013 John Wiley & Sons, Ltd. 相似文献
104.
系统变量在数控铣削加工中的应用研究 总被引:1,自引:0,他引:1
提出利用系统变量和宏程序对刀具半径补偿值实时读、写操作的方法,详细说明了程序编写思路和步骤,实际操作表明可以代替人工在加工过程输入刀具补偿参数,能避免人工修改刀具补偿产生的错误,减少加工过程中多次停机和操作工人的劳动强度,有效地提高加工效率、产品合格率、数控机床的利用率和自动化程度.特别是在批量生产中,能为企业带来非常可观的经济效益,可以推广至其他数控系统. 相似文献
105.
针对刨床数控改造中工件外轮廓型线采用小直线段近似逼近及通常采用半圆弧刀具加工的做法,提出了一种数控编程中“刀具半径补偿”的简化的无需预览的在线计算方法:在获知当前逼近直线段起点与终点的情况下,即可计算出加工刀具当前的中心点;在给出计算方法的同时,讨论并说明了该方法对要求的加工精度没有影响.实践使用,该方法只要占用很少的数控装置资源,简单易行. 相似文献
106.
107.
108.
大尺寸弹丸喷丸成形是一种针对大型整体壁板塑性成形的有效手段。采用正交试验方法对7B50铝合金平板试件开展大尺寸弹丸喷丸成形工艺试验,研究不同工艺参数下喷丸后试件沿弦向和展向曲率半径的变化规律。结果表明:试件在喷丸成形后呈球面凸起变形,且沿弦向的曲率半径小于沿展向的曲率半径;各因素按对曲率半径的影响程度排序依次为喷丸气压>试件厚度>移动速度;曲率半径随着厚度和移动速度的增加而增加,随着喷丸气压的增加而减小;建立了可以反映曲率半径与3个因素之间定量关系的回归方程,可为今后喷丸成形的变形预测提供参考。 相似文献
109.
110.
为了优选宏弯损耗敏感光纤,研发基于光纤宏弯损耗的光学器件,对影响单模光纤宏弯损耗的主要因素进行了理论分析和仿真研究。基于D.Marcuse和H.Renner提出的光纤宏弯损耗理论模型,选取SMF28、SMF28e和1060XP三种单模光纤,仿真研究了涂覆层、弯曲半径、光源波长、MAC值和弯曲圈数对光纤宏弯损耗性能的影响。结果表明:无涂覆层、带吸收层的单模光纤宏弯损耗随着波长增长而增大、随着弯曲半径增大而减小、随着圈数增多而增大、随着MAC值增大而增大;光纤的丙烯酸酯类涂覆层会引起宏弯损耗随弯曲半径变化发生振荡;MAC值是衡量光纤宏弯损耗敏感性能的指标,也是优选宏弯损耗敏感光纤的重要参数。因此,光纤宏弯损耗器件适合选用MAC值大的光纤,去除其涂覆层,增加吸收层,然后选择较长的波长、较小的弯曲半径和适当多的弯曲圈数。 相似文献